本書以納米間隙氣體潤滑問題為主要研究和應(yīng)用對象,基于分子動力學(xué)、納米摩擦學(xué)和納米力學(xué)基本理論,綜合考慮氣體稀薄效應(yīng)、表面粗糙度、分子力等納米尺度效應(yīng)的影響,建立納米間隙氣膜潤滑新模型,研究具有納米間隙氣膜的靜動態(tài)承載特性問題
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目錄
前言
符號表
第一篇 基本理論
第1章 緒論 3
1.1 引言 3
1.2 硬盤及其工作原理 4
1.2.1 硬盤的結(jié)構(gòu) 4
1.2.2 硬盤的工作原理 6
1.3 納米間隙氣膜潤滑理論研究進(jìn)展 8
1.3.1 氣膜潤滑方程及其修正 8
1.3.2 基于表面粗糙度和表面容納系數(shù)的氣膜潤滑方程 10
1.3.3 氣膜潤滑方程的數(shù)值求解方法 11
1.4 納米間隙氣膜動態(tài)特性研究進(jìn)展 14
1.4.1 納米間隙氣膜非線性動力學(xué)分析 14
1.4.2 磁頭/磁盤系統(tǒng)沖擊響應(yīng)數(shù)值研究 15
1.4.3 磁頭/磁盤系統(tǒng)沖擊響應(yīng)實驗研究 17
1.5 本書的主要內(nèi)容 19
第2章 氣膜潤滑理論 21
2.1 潤滑氣體的基本性質(zhì) 21
2.1.1 氣體的基本定律 21
2.1.2 氣體的壓縮性 22
2.1.3 氣體的膨脹性 23
2.1.4 氣體的傳輸性 23
2.1.5 分子平均自由程 26
2.2 潤滑氣體的流動特性 28
2.2.1 潤滑氣體的流動狀態(tài) 28
2.2.2 氣體的薄層流動 28
2.3 氣體的潤滑機(jī)理 33
2.3.1 氣體動壓潤滑機(jī)理 33
2.3.2 氣體靜壓潤滑機(jī)理 36
2.4 氣膜潤滑方程的一般形式 38
2.4.1 磁頭/磁盤界面 38
2.4.2 一般形式Reynolds方程的推導(dǎo) 39
2.5 納米間隙氣膜潤滑方程及修正 42
2.5.1 稀薄效應(yīng) 42
2.5.2 Reynolds方程的修正 43
2.5.3 兩種新型修正模型的推導(dǎo) 46
第二篇 研究方法
第3章 納米間隙氣膜潤滑方程的數(shù)值計算方法 55
3.1 最小二乘有限差分法 55
3.1.1 一維泰勒級數(shù)公式 55
3.1.2 二維泰勒級數(shù)公式 56
3.1.3 LSFD法求解一維Reynolds方程 59
3.1.4 LSFD法求解二維Reynolds方程 61
3.2 有限體積法 63
3.2.1 控制體的質(zhì)量守恒 64
3.2.2 控制體的邊界不連續(xù)性 65
3.2.3 線高斯迭代 68
3.3 基于壓力梯度的自適應(yīng)網(wǎng)格技術(shù) 70
3.3.1 磁頭/磁盤界面自適應(yīng)網(wǎng)格技術(shù) 70
3.3.2 網(wǎng)格密度函數(shù) 72
3.3.3 Ω浮動塊自適應(yīng)網(wǎng)格分布 73
3.4 多重網(wǎng)格法 75
3.4.1 多重網(wǎng)格法各層網(wǎng)格的生成 75
3.4.2 多重網(wǎng)格法的實施 76
3.5 修正的LSFD法 77
3.5.1 LSFD法的修正 77
3.5.2 邊界離散點的處理 78
第4章 納米間隙氣膜非線性動力學(xué)分析方法 79
4.1 納米間隙氣膜動力學(xué)分析模型建立 79
4.1.1 物理參數(shù)分析模型 79
4.1.2 模態(tài)參數(shù)分析模型 80
4.1.3 磁頭/磁盤系統(tǒng)分析模型 80
4.1.4 磁頭/磁盤系統(tǒng)單自由度模型 81
4.1.5 磁頭/磁盤系統(tǒng)二自由度模型 81
4.2 單自由度模型非線性動力學(xué)分析方法 83
4.2.1 逐步積分法-線性加速度法 83
4.2.2 Wilson-θ法 86
4.2.3 Newmark-β法 87
4.2.4 修正Newmark-β法求解單自由度磁頭/磁盤系統(tǒng)動力平衡方程 88
4.3 二自由度模型非線性動力學(xué)分析方法 93
4.3.1 應(yīng)用模態(tài)分析法求解動力平衡方程 94
4.3.2 動力平衡方程的坐標(biāo)耦合與解耦 94
4.4 基于Reynolds方程的磁頭/磁盤系統(tǒng)動態(tài)特性分析 98
4.4.1 浮動塊平衡方程 98
4.4.2 牛頓迭代法 99
4.4.3 數(shù)學(xué)模型建立 100
第三篇 工程應(yīng)用
第5章 納米間隙氣膜靜態(tài)特性研究 105
5.1 基于LSFD法的氣膜壓力分布 105
5.1.1 二維平板浮動塊 105
5.1.2 IBM3380浮動塊 106
5.1.3 二軌道浮動塊 108
5.1.4 三墊式浮動塊 110
5.1.5 負(fù)壓浮動塊 112
5.2 基于有限體積法的氣膜壓力分布 114
5.2.1 IBM3380浮動塊 114
5.2.2 TP1212浮動塊 115
5.2.3 負(fù)壓浮動塊1 118
5.2.4 負(fù)壓浮動塊2 120
5.3 基于多重網(wǎng)格法的氣膜壓力分布 123
5.4 飛行參數(shù)對氣膜靜態(tài)特性的影響 125
5.4.1 飛行參數(shù)對氣膜承載力的影響 125
5.4.2 飛行參數(shù)對氣膜壓力中心的影響 126
第6章 表面粗糙度和表面容納系數(shù)對氣膜靜態(tài)特性的影響 129
6.1 基于表面粗糙度的氣膜潤滑方程 129
6.1.1 基本方程 129
6.1.2 數(shù)值求解 130
6.2 表面粗糙度對氣膜靜態(tài)特性的影響 133
6.2.1 表面粗糙度對氣膜壓力分布的影響 133
6.2.2 表面粗糙度對氣膜承載力的影響 137
6.2.3 表面粗糙度對氣膜壓力中心的影響 140
6.2.4 幾種模型的計算效率對比 143
6.3 基于表面容納系數(shù)的分子氣膜潤滑方程 144
6.3.1 分子氣膜潤滑方程的多項式對數(shù)形式 144
6.3.2 分子氣膜潤滑方程的修正 145
6.3.3 修正模型精度驗證 150
6.4 表面容納系數(shù)對氣膜靜態(tài)特性的影響 151
6.4.1 表面容納系數(shù)對氣膜壓力分布的影響 151
6.4.2 表面容納系數(shù)對氣膜承載力的影響 152
6.4.3 表面容納系數(shù)對氣膜壓力中心的影響 153
6.4.4 不同磁盤轉(zhuǎn)速時表面容納系數(shù)對氣膜壓力分布的影響 154
6.5 表面粗糙度和容納系數(shù)對氣膜承載特性的復(fù)合影響 159
6.5.1 氣膜壓力分布影響分析 159
6.5.2 氣膜承載力影響分析 161
6.5.3 氣膜壓力中心影響分析 162
第7章 納米間隙氣膜動態(tài)特性研究 164
7.1 單自由度系統(tǒng)非線性動力學(xué)分析 164
7.1.1 單自由度模型求解過程 164
7.1.2 浮動塊運動特性的時域分析 164
7.1.3 浮動塊運動特性的頻域分析 166
7.1.4 磁頭/磁盤系統(tǒng)浮動塊瞬態(tài)動力響應(yīng)分析 168
7.2 二自由度系統(tǒng)非線性動力學(xué)分析 170
7.2.1 求解流程 170
7.2.2 浮動塊運動特性的時域分析 171
7.2.3 浮動塊運動特性的頻域分析 173
7.2.4 不同參數(shù)對浮動塊運動特性的影響 174
7.3 預(yù)緊力和磁盤轉(zhuǎn)速對浮動塊飛行特性的影響 178
7.3.1 浮動塊及其初始狀態(tài) 178
7.3.2 預(yù)緊力對浮動塊飛行特性的影響 179
7.3.3 磁盤轉(zhuǎn)速對浮動塊飛行特性的影響 183
7.4 空氣/氦氣混合氣中浮動塊的飛行特性 188
7.4.1 相關(guān)參數(shù)計算 188
7.4.2 飛行高度動態(tài)響應(yīng) 190
7.4.3 飛行角度動態(tài)響應(yīng) 193
7.4.4 浮動塊受力分析 194
7.5 浮動塊發(fā)生觸盤時的動態(tài)特性分析 199
7.5.1 觸盤現(xiàn)象 199
7.5.2 正常環(huán)境壓力(Ps=1.0atm)時的觸盤現(xiàn)象分析 200
7.5.3 較低環(huán)境壓力(Ps=0.5atm)時的觸盤現(xiàn)象分析 202
第8章 磁頭/磁盤系統(tǒng)沖擊響應(yīng)分析 205
8.1 磁盤系統(tǒng)有限元模型 205
8.1.1 硬盤系統(tǒng)幾何模型 205
8.1.2 硬盤系統(tǒng)有限元模型 208
8.1.3 連接、接觸和邊界條件設(shè)置 212
8.2 磁頭/磁盤系統(tǒng)沖擊響應(yīng)計算模型 215
8.2.1 基本流程 215
8.2.2 LS-DYNA隱式-顯式序列計算 216
8.2.3 重啟動 219
8.3 磁頭/磁盤系統(tǒng)沖擊響應(yīng)分析 220
8.3.1 硬盤在外殼、懸臂和磁盤的沖擊響應(yīng) 220
8.3.2 磁頭/磁盤系統(tǒng)沖擊響應(yīng) 224
8.3.3 磁頭/磁盤界面接觸碰撞分析 230
8.4 磁頭/磁盤系統(tǒng)沖擊響應(yīng)實驗測量 231
8.4.1 原理和裝置 231
8.4.2 測量和分析 235
參考文獻(xiàn) 237
彩圖