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當(dāng)前分類數(shù)量:10788  點(diǎn)擊返回 當(dāng)前位置:首頁 > 中圖法 【TN 無線電電子學(xué)、電信技術(shù)】 分類索引
  • 5G安全技術(shù)
    • 5G安全技術(shù)
    • 主編 徐雷 等/2022-10-1/ 機(jī)械工業(yè)出版社/定價(jià):¥69
    • 本書聚焦5G移動(dòng)通信網(wǎng)絡(luò)安全,詳細(xì)介紹了5G安全發(fā)展背景、5G網(wǎng)絡(luò)技術(shù)、5G安全威脅、5G關(guān)鍵技術(shù)安全等內(nèi)容。其中,5G面臨的安全威脅及解決方案、前沿技術(shù)助力5G安全、5G賦能典型垂直行業(yè)的安全場景等章節(jié),詳細(xì)介紹了5G三大應(yīng)用場景下的安全問題,具體描述了區(qū)塊鏈、NFV、邊緣計(jì)算等新技術(shù)自身的安全風(fēng)險(xiǎn)及5G安全增強(qiáng)。在

    • ISBN:9787111712794
  • 半導(dǎo)體簡史
    • 半導(dǎo)體簡史
    • 王齊 范淑琴 編著/2022-10-1/ 機(jī)械工業(yè)出版社/定價(jià):¥108
    • 本書沿半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展歷程,分基礎(chǔ)、應(yīng)用與制造三條主線展開。其中,基礎(chǔ)線主要覆蓋與半導(dǎo)體材料相關(guān)的量子力學(xué)、凝聚態(tài)物理與光學(xué)的一些常識。應(yīng)用線從晶體管與集成電路的起源開始,逐步過渡到半導(dǎo)體存儲(chǔ)與通信領(lǐng)域。制造線以集成電路為主展開,并介紹了相應(yīng)的半導(dǎo)體材料與設(shè)備。三條主線涉及了大量與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)相關(guān)的歷史。筆者希望能夠

    • ISBN:9787111713395
  • 分?jǐn)?shù)階傅里葉變換及其應(yīng)用(第2版)
    • 分?jǐn)?shù)階傅里葉變換及其應(yīng)用(第2版)
    • 陶然、馬金銘、鄧兵、王越/2022-10-1/ 清華大學(xué)出版社/定價(jià):¥158
    • 本書主要介紹分?jǐn)?shù)階傅里葉變換的發(fā)展歷程、定義及性質(zhì),基于分?jǐn)?shù)階傅里葉變換的分?jǐn)?shù)階算子和分?jǐn)?shù)階變換,分?jǐn)?shù)階傅里葉域?yàn)V波器、以及線性調(diào)頻信號的檢測和參數(shù)估計(jì)問題;分?jǐn)?shù)階傅里葉域離散信號處理理論,包括分?jǐn)?shù)階傅里葉變換的離散算法、分?jǐn)?shù)階傅里葉域的采樣以及多抽樣率濾波器組理論;分?jǐn)?shù)階傅里葉域隨機(jī)信號處理理論;分?jǐn)?shù)階傅里葉變換在陣

    • ISBN:9787302609827
  • 半導(dǎo)體器件電離輻射總劑量效應(yīng)
    • 半導(dǎo)體器件電離輻射總劑量效應(yīng)
    • 陳偉,何寶平,姚志斌,馬武英/2022-10-1/ 科學(xué)出版社/定價(jià):¥135
    • 輻射在半導(dǎo)體器件中電離產(chǎn)生電子-空穴對,長時(shí)間輻射劑量累積引起半導(dǎo)體器件電離輻射總劑量效應(yīng)。電離輻射總劑量效應(yīng)是輻射效應(yīng)中最常見的一種,會(huì)導(dǎo)致器件性能退化、閾值電壓漂移、遷移率下降、動(dòng)態(tài)和靜態(tài)電流增加,甚至功能失效,因此在輻射環(huán)境中工作的半導(dǎo)體器件和電子系統(tǒng)必須考慮電離輻射總劑量效應(yīng)問題。本書主要介紹空間輻射環(huán)境與效應(yīng)

    • ISBN:9787030700391
  • 光電信息專業(yè)實(shí)驗(yàn)教程
    • 光電信息專業(yè)實(shí)驗(yàn)教程
    • 滕樹云,劉春香/2022-10-1/ 科學(xué)出版社/定價(jià):¥45
    • 《光電信息專業(yè)實(shí)驗(yàn)教程》是基于光電信息科學(xué)技術(shù)的發(fā)展和電子信息領(lǐng)域?qū)Ω咚刭|(zhì)應(yīng)用型人才的需求,依托光電信息科學(xué)與工程專業(yè)建設(shè)需要編寫的實(shí)驗(yàn)課程教材。本書由兩大部分組成:第一部分為光電信息技術(shù)原理,包括激光原理、光通信原理和光電轉(zhuǎn)換原理,共有10個(gè)專業(yè)實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目;第二部分為光電信息技術(shù)應(yīng)用,包括光信息處理技術(shù)應(yīng)用、光電探測技

    • ISBN:9787030732866
  • 寬帶逆合成孔徑雷達(dá)高分辨成像技術(shù)
    • 寬帶逆合成孔徑雷達(dá)高分辨成像技術(shù)
    • 田彪等/2022-10-1/ 科學(xué)出版社/定價(jià):¥128
    • 逆合成孔徑雷達(dá)是對空天目標(biāo)進(jìn)行探測、跟蹤、成像的重要傳感器,可獲取目標(biāo)的一維、二維甚至三維圖像。隨著先進(jìn)成像雷達(dá)裝備的研制,雷達(dá)成像也面臨高載頻、大帶寬、目標(biāo)遠(yuǎn)距離、非合作帶來的一系列挑戰(zhàn),亟須研究和探索與之相適應(yīng)的高分辨成像算法和技術(shù)。本書重點(diǎn)闡述研究團(tuán)隊(duì)在逆合成孔徑雷達(dá)精細(xì)化成像與多維度成像方面取得的**研究成果,

    • ISBN:9787030719300
  • 系統(tǒng)可靠性:簽名計(jì)算與分析
    • 系統(tǒng)可靠性:簽名計(jì)算與分析
    • 達(dá)高峰,丁維勇/2022-10-1/ 科學(xué)出版社/定價(jià):¥88
    • 本書主要介紹近幾年來作者在系統(tǒng)簽名理論方面的研究成果,內(nèi)容側(cè)重于系統(tǒng)簽名的度量特征,主要探討如何更有效地從系統(tǒng)結(jié)構(gòu)出發(fā)來計(jì)算簽名,以及簽名作為可靠性度量的年齡性質(zhì)等,這些結(jié)果對系統(tǒng)簽名在可靠性中獲得更深入的應(yīng)用至關(guān)重要。此外,本書還介紹了文獻(xiàn)中已有的系統(tǒng)簽名的一些擴(kuò)展,包括多狀態(tài)系統(tǒng)簽名、多類型系統(tǒng)簽名、概率簽名、耦合

    • ISBN:9787030669155
  • TSV三維集成理論、技術(shù)與應(yīng)用
    • TSV三維集成理論、技術(shù)與應(yīng)用
    • 金玉豐,馬盛林/2022-10-1/ 科學(xué)出版社/定價(jià):¥188
    • 后摩爾時(shí)代將硅通孔(throughsiliconvia,TSV)技術(shù)等先進(jìn)集成封裝技術(shù)作為重要發(fā)展方向。本書系統(tǒng)介紹作者團(tuán)隊(duì)在TSV三維集成方面的研究工作,包括緒論、TSV工藝仿真、TSV工藝、TSV三維互連電學(xué)設(shè)計(jì)、三維集成微系統(tǒng)的熱管理方法、三維集成電學(xué)測試技術(shù)、TSV轉(zhuǎn)接板技術(shù)、TSV三維集成應(yīng)用、發(fā)展趨勢。為了

    • ISBN:9787030618368
  • 網(wǎng)絡(luò)設(shè)備配置與管理——基于Cisco Packet?Tracer?7.0
    • 網(wǎng)絡(luò)設(shè)備配置與管理——基于Cisco Packet?Tracer?7.0
    • 覃達(dá)貴/2022-10-1/ 電子工業(yè)出版社/定價(jià):¥39.8
    • 本書是面向“網(wǎng)絡(luò)設(shè)備配置與管理”課程的案例驅(qū)動(dòng)式教材。通過43個(gè)典型案例,深入淺出地講解了網(wǎng)絡(luò)設(shè)備的常規(guī)配置及其應(yīng)用配置。全書分為5章。第1章介紹簡單局域網(wǎng)組建;第2章介紹交換機(jī)配置;第3章介紹路由器配置;第4章介紹防火墻配置;第5章介紹物聯(lián)網(wǎng)配置。本書所有案例均以CiscoPacketTracer7.0軟件為實(shí)驗(yàn)平臺

    • ISBN:9787121371530
  • 光學(xué)光刻和極紫外光刻
    • 光學(xué)光刻和極紫外光刻
    • [美]安迪·愛德曼 著,高偉民 徐東波 諸波爾 譯/2022-10-1/ 上?茖W(xué)技術(shù)出版社/定價(jià):¥195
    • 《光學(xué)光刻和極紫外光刻》是一本最新的光刻技術(shù)專著,內(nèi)容涉及該領(lǐng)域的各個(gè)重要方面。在介紹光刻技術(shù)應(yīng)用上,涵蓋了全面又豐富的內(nèi)容;在論述光刻技術(shù)的物理機(jī)制和數(shù)學(xué)模型時(shí),采用了完整而不繁瑣的方法,增加了可讀性。本書在系統(tǒng)地闡述了光學(xué)光刻技術(shù)的基本內(nèi)容后,還專門開辟章節(jié),介紹了最先進(jìn)的極紫外光刻技術(shù)的特點(diǎn)和難點(diǎn),揭示了極紫外光

    • ISBN:9787547857205