本書是一本實踐性指南,它給出一種納米尺度CMOS模擬電路集成電路設計的新方法,新方法具有高效的特性,且可對電路行為帶來深入洞察。
譯者序
符號與縮略語表
第1章緒論
1.1寫作緣由
1.2模擬電路尺寸問題和提出的方法
1.2.1平方律視角
1.2.2使用查詢表進行權衡
1.2.3一般化
1.2.4VGS未知的設計
1.2.5弱反型下的設計
1.3內容概述
1.4關于預備知識
1.5關于符號
1.6參考文獻
第2章基礎晶體管建模
2.1CSM
2.1.1CSM中的漏極電流方程
2.1.2漏極電流與漏極電壓的關系
2.1.3跨導效率gm/ID
2.2基礎EKV模型
2.2.1基礎EKV方程
2.2.2共源MOS晶體管的基礎EKV模型
2.2.3EKV模型的強、弱反型近似
2.2.4基礎EKV模型中gm和gm/ID的表達式
2.2.5從EKV模型中提取參數
2.3實際的晶體管
2.3.1實際漏極電流的特征ID(VGS) 和gm/ID
2.3.2實際晶體管的漏極飽和電壓VDsat
2.3.3偏置條件對EKV參數的影響
2.3.4漏極電流特性ID(VDS)
2.3.5輸出電導gds
2.3.6gds/ID之比
2.3.7本征增益
2.3.8MOSFET電容和特征頻率fT
2.4本章小結
2.5參考文獻
第3章使用gm/ID方法的基本尺寸設計
3.1本征增益級的尺寸設計
3.1.1電路分析
3.1.2設計尺寸時的考慮因素
3.1.3對于給定的gm/ID設計尺寸
3.1.4基本權衡探索
3.1.5在弱反型下設計尺寸
3.1.6使用漏極電流密度設計尺寸
3.1.7包含外部電容
3.2實際共源級
3.2.1有源負載
3.2.2電阻負載
3.3差分放大器級
3.4本章小結
3.5參考文獻
第4章噪聲、失真與失配
4.1電噪聲
4.1.1熱噪聲建模
4.1.2熱噪聲、增益帶寬與供電電流間的權衡
4.1.3來自有源負載的熱噪聲
4.1.4閃爍噪聲(1/f噪聲)
4.2非線性失真
4.2.1MOS跨導的非線性
4.2.2MOS差分對的非線性
4.2.3輸出電導
4.3隨機失配
4.3.1隨機失配建模
4.3.2失配在電流鏡中的影響
4.3.3失配在差分放大器中的影響
4.4本章小結
4.5參考文獻
第5章電路應用實例Ⅰ
5.1恒定跨導偏置電路
5.2高擺幅級聯電流鏡
5.2.1調整電流鏡器件的大小
5.2.2對共源共柵偏置電路進行尺寸設計
5.3低壓降穩(wěn)壓器
5.3.1低頻分析
5.3.2高頻分析
5.4射頻低噪聲放大器
5.4.1為低噪聲系數設計尺寸
5.4.2為低噪聲系數和低失真設計尺寸
5.5電荷放大器
5.5.1電路分析
5.5.2假定特征頻率恒定的優(yōu)化
5.5.3假定漏極電流恒定的優(yōu)化
5.5.4假定噪聲和帶寬恒定的優(yōu)化
5.6為工藝邊界進行設計
5.61偏置的考慮
5.62對于工藝和溫度的工藝評估
5.63可能的設計流程
5.7本章小結
5.8參考文獻
第6章電路應用實例Ⅱ
6.1開關電容電路的基本OTA
6.1.1小信號電路分析
6.1.2假定噪聲和帶寬恒定的優(yōu)化
6.1.3考慮擺幅的優(yōu)化
6.2用于開關電容電路的折疊式共源共柵OTA
6.2.1設計方程
6.2.2優(yōu)化流程
6.2.3存在壓擺時的優(yōu)化
6.3用于開關電容電路的兩級OTA
6.3.1設計方程
6.3.2優(yōu)化流程
6.3.3存在壓擺時的優(yōu)化
6.4簡化設計流程
6.4.1折疊共源共柵OTA
6.4.2兩級OTA
6.5開關尺寸調整
6.6本章小結
6.7參考文獻
附錄A EKV參數提取算法
附錄B 查詢表的生成與使用
附錄C 布局依賴