第1章 鋁電解電容器及其技術(shù)原理
1.1 鋁電解電容器的原理
1.1.1 鋁電解電容器及其基本結(jié)構(gòu)
1.1.2 陰極與陽(yáng)極的電容參數(shù)關(guān)系及電容器鋁箔
1.1.3 電容器鋁箔高比電容化原理
1.2 電容器鋁箔的基本加工工序簡(jiǎn)述
1.2.1 鋁電解電容器的基本生產(chǎn)流程
1.2.2 高純鋁的傳統(tǒng)生產(chǎn)方式
1.2.3 光箔的加工
1.2.4 鋁箔的腐蝕與化成加工
1.3 國(guó)內(nèi)電容器鋁箔加工技術(shù)的發(fā)展
1.3.1 初期發(fā)展階段
1.3.2 快速發(fā)展階段
1.3.3 新的挑戰(zhàn)
參考文獻(xiàn)

第1章 鋁電解電容器及其技術(shù)原理
1.1 鋁電解電容器的原理
1.1.1 鋁電解電容器及其基本結(jié)構(gòu)
1.1.2 陰極與陽(yáng)極的電容參數(shù)關(guān)系及電容器鋁箔
1.1.3 電容器鋁箔高比電容化原理
1.2 電容器鋁箔的基本加工工序簡(jiǎn)述
1.2.1 鋁電解電容器的基本生產(chǎn)流程
1.2.2 高純鋁的傳統(tǒng)生產(chǎn)方式
1.2.3 光箔的加工
1.2.4 鋁箔的腐蝕與化成加工
1.3 國(guó)內(nèi)電容器鋁箔加工技術(shù)的發(fā)展
1.3.1 初期發(fā)展階段
1.3.2 快速發(fā)展階段
1.3.3 新的挑戰(zhàn)
參考文獻(xiàn)

第2章 電容器鋁箔加工的金屬學(xué)基礎(chǔ)
2.1 鋁的基本結(jié)構(gòu)特點(diǎn)
2.1.1 鋁的基本特性
2.1.2 晶體結(jié)構(gòu)
2.1.3 晶向與晶面
2.1.4 鋁晶體的旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)性
2.2 鋁晶體的取向與多晶體織構(gòu)
2.2.1 取向與織構(gòu)的定義
2.2.2 極射赤面投影圖
2.2.3 取向分布函數(shù)
2.2.4 100織構(gòu)占有率的計(jì)算
2.3 鋁中的位錯(cuò)
2.3.1 位錯(cuò)的概念與類(lèi)型
2.3.2 位錯(cuò)應(yīng)力場(chǎng)和位錯(cuò)能量
2.3.3 鋁中位錯(cuò)的滑移
2.3.4 位錯(cuò)受力
2.3.5 位錯(cuò)的增殖
2.3.6 鋁箔表面的位錯(cuò)狀態(tài)和正應(yīng)力場(chǎng)
2.4 鋁中的其他缺陷
2.4.1 空位
2.4.2 晶界的結(jié)構(gòu)
2.4.3 表面結(jié)構(gòu)
2.4.4 表面氧化膜對(duì)鋁箔位錯(cuò)的影響
2.5 鋁基固溶體
2.5.1 鋁基固溶體的類(lèi)型
2.5.2 固溶元素的平衡偏析
2.5.3 固溶元素的非平衡偏析
2.5.4 多晶固溶體中晶界的遷移
參考文獻(xiàn)

第3章 鋁的腐蝕與氧化原理
3.1 金屬電化學(xué)腐蝕基礎(chǔ)
3.1.1 金屬腐蝕電池
3.1.2 金屬腐蝕熱力學(xué)
3.1.3 金屬電化學(xué)腐蝕動(dòng)力學(xué)
3.1.3.1 腐蝕電池的電極過(guò)程
3.1.3.2 腐蝕電池動(dòng)力學(xué)的基本原理
3.1.4 金屬的鈍化
3.2 鋁的電化學(xué)腐蝕原理
3.2.1 鋁的均勻腐蝕
3.2.2 鋁的小孔腐蝕
3.2.2.1 金屬小孔腐蝕的基本規(guī)律
3.2.2.2 鋁表面小孔的萌生
3.2.2.3 鋁的小孔腐蝕動(dòng)力學(xué)
3.2.3 鋁的電偶腐蝕
3.2.3.1 電偶電流和電偶腐蝕效應(yīng)
3.2.3.2 電偶腐蝕的影響因素
3.2.3.3 鋁箔腐蝕加工申的電偶腐蝕
3.2.4 鋁合金的晶間腐蝕
3.3 鋁的氧化原理
……
第4章 電容器光箔加工過(guò)程中組織結(jié)構(gòu)的演變
第5章 電容器光箔的組織結(jié)構(gòu)與表面質(zhì)量
第6章 電容器光箔加工技術(shù)的更新與發(fā)展
第7章 電容器鋁箔的腐蝕與化成
參考文獻(xiàn)