前言
第1章 緒論
1．1材料研究的意義和內(nèi)容
1．2材料結(jié)構(gòu)和研究方法的分類

第2章 光學(xué)顯微分析
2．1概述
2．2晶體光學(xué)基礎(chǔ)
2．3光學(xué)顯微分析方法
2．4特殊光學(xué)顯微分析法
2．5光學(xué)顯微分析樣品的制備
2．6光學(xué)顯微分析技術(shù)的突破——近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡
2．7光學(xué)顯微分析在材料科學(xué)中的應(yīng)用

第3章 x射線衍射分析
3．1x射線的物理基礎(chǔ)
3．2x射線衍射原理
3．3x射線衍射束的強(qiáng)度
3．4實(shí)驗(yàn)方法及樣品制備
3．5x射線粉末衍射物相定性分析
3．6x射線物相定量分析
3．7晶體結(jié)構(gòu)分析
3．8x射線衍射技術(shù)在其他方面的應(yīng)用

第4章 電子顯微分析
4．1概述
4．2透射電鏡
4．3掃描電鏡
4．4電子探針儀
4．5電鏡的近期發(fā)展
4．6電子光學(xué)表面分析儀

第5章 熱分析
5．1概述
5．2熱分析技術(shù)的分類
5．3差熱分析
5．4差示掃描量熱分析法
5．5熱重分析
5．6熱膨脹和熱機(jī)械分析
5．7熱分析技術(shù)的應(yīng)用
5．8熱分析技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)

第6章 光譜分析
6．1吸收光譜分類及基本原理
6．2紫外光譜
6．3紅外吸收光譜分析
6．4激光拉曼散射光譜法

第7章 核磁共振分析
7．1概述
7．2核磁共振的基本原理
7．3質(zhì)子的化學(xué)位移
7．4自旋偶合
7．5核磁共振的信號(hào)強(qiáng)度
7．6圖譜解釋
7．7構(gòu)造和樣品制備
7．8nmr技術(shù)的進(jìn)展
7．9核磁共振譜在材料分析研究中的應(yīng)用

第8章 質(zhì)譜分析
8．1概述
8．2質(zhì)譜技術(shù)基本原理-
8．3離子的類型
8．4質(zhì)譜定性分析及圖譜解析
8．5質(zhì)譜定量分析
8．6氣相色譜一質(zhì)譜聯(lián)用技術(shù)
8．7質(zhì)譜分析在材料研究中的應(yīng)用

第9章 材料測(cè)試方法的綜合應(yīng)用
9．1材料結(jié)構(gòu)的測(cè)試
9．2材料顯微術(shù)及其樣品制備方法的選擇
9．3材料形成過程研究
9．4材料剖析
主要參考文獻(xiàn)