光刻機(jī)像質(zhì)檢測(cè)技術(shù)是支撐光刻機(jī)整機(jī)與分系統(tǒng)滿足光刻機(jī)分辨率、套刻精度等性能指標(biāo)要求的關(guān)鍵技術(shù)。本書系統(tǒng)地介紹了光刻機(jī)像質(zhì)檢測(cè)技術(shù)。介紹了國(guó)際主流的光刻機(jī)像質(zhì)檢測(cè)技術(shù)，詳細(xì)介紹了本團(tuán)隊(duì)提出的系列新技術(shù)，涵蓋了光刻膠曝光法、空間像測(cè)量法、干涉測(cè)量法等檢測(cè)技術(shù)，包括初級(jí)像質(zhì)參數(shù)、波像差、偏振像差、動(dòng)態(tài)像差、熱像差等像質(zhì)檢測(cè)技術(shù)。本書介紹了這些技術(shù)的理論基礎(chǔ)、原理、模型、算法、仿真與實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證等內(nèi)容。以光刻機(jī)原位與在線像質(zhì)檢測(cè)技術(shù)為主，也介紹了投影物鏡的離線像質(zhì)檢測(cè)技術(shù)，涵蓋了深紫外干式、浸液光刻機(jī)以及極紫外光刻機(jī)像質(zhì)檢測(cè)技術(shù)。

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