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專利挖掘(第2版) 讀者對象:(1)企業(yè)知識產權主管、研發(fā)主管,企業(yè)專利管理人員,企業(yè)研發(fā)人員;(2)知識產權代理機構專利代理師、專利咨詢師、專利管理師、專利工程師;(3)專利律師;(4)各級政府專利管理部門相關人員、專利分析課題研究人員;(5)相關專業(yè)的大學生等。
本書系統(tǒng)梳理了專利挖掘的理論和常用工具,首次通過專利挖掘的主要場景(如基于研發(fā)目的和創(chuàng)新點的專利挖掘、應對競爭對手核心專利的專利挖掘、規(guī)避設計的專利挖掘等)對專利挖掘進行逐一闡述。此外,還分別從主要技術領域介紹了專利挖掘的手段,并通過典型案例講解、分析了專利挖掘的具體過程。讀者對象:企業(yè)研發(fā)人員、專利工程師、專利代理師和專利咨詢師、相關專業(yè)師生。
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