1緒論

1.1研究背景

1.2硅納米晶發(fā)光的研究現(xiàn)狀及進展

1.3實驗設(shè)備及其技術(shù)

1.4本研究的工作目標

1.5本書安排及取得的主要成就

參考文獻

2硅納米晶的制備及其電致發(fā)光機理研究

2.1硅納米晶的制備

2.2硅納米晶的結(jié)構(gòu)特性和光學(xué)特性的表征

2.3硅納米晶的電致發(fā)光機理研究

2.4本章小結(jié)

參考文獻

3界面效應(yīng)對硅納米晶發(fā)光的影響

3.1不同基體材料樣品的制備

3.2硅納米晶的發(fā)光光譜

3.3界面效應(yīng)對硅納米晶發(fā)光的影響

3.4其他因素對硅納米晶電致發(fā)光強度的影響

3.5本章小結(jié)

參考文獻

4場效應(yīng)在硅納米晶電致發(fā)光中的增強研究

4.1樣品的制備

4.2界面電場的驗證

4.3場效應(yīng)層厚度的優(yōu)化

4.4樣品的光致發(fā)光和電致發(fā)光強度

4.5場效應(yīng)對硅納米晶電致發(fā)光強度的增強研究

4.6本章小結(jié)

參考文獻

5表面等離子體在硅納米晶發(fā)光中的增強研究

5.1表面等離子體(surfacePlasmons)

5.2樣品的制備

5.3表面等離子體的表征

5.4表面等離子體對硅納米晶發(fā)光的增強研究

5.5本章小結(jié)

參考文獻

6量產(chǎn)硅量子點的制備及其發(fā)光研究

6.1量產(chǎn)硅量子點的制備方法

6.2量產(chǎn)硅量子點的光學(xué)性質(zhì)和結(jié)構(gòu)表征

6.3量產(chǎn)硅量子點的光致發(fā)光及電致發(fā)光研究

6.4本章小結(jié)

參考文獻

7硅納米晶光學(xué)增益的增強研究

7.1硅納米晶光學(xué)增益的測試方法與模擬計算

7.2樣品的制備

7.3H鈍化與Ce3 摻雜對硅納米晶光增益的增強研究

7.4本章小結(jié)

參考文獻

8總結(jié)與展望

8.1內(nèi)容總結(jié)

8.2展望

附錄

附錄1實驗試劑列表

附錄2硅納米晶形成的微觀過程

附錄3增強硅納米晶光致發(fā)光的方法